真空镀膜技术是软性电子量产化中不可或缺的一环。近年来许多知名研究机构与企业争相投入研究开发，以期成为真空镀膜领域之佼佼者。传统电子产业中普遍使用「硅」及「玻璃」为主要生产基材，随着技术应用的演变，「硅、玻璃」已无法满足柔软且可调整的产品应用特性。因应电子技术的演进，汇成创新研发出光电薄膜绕卷镀膜机，绕卷式镀膜及多层镀膜，并可应用于电子纸、ITO薄膜、软性电路板，太阳能薄膜电池、医疗试片、RFID天线及水氧阻隔膜等各项产品，相信我们的设备可为镀膜产业带来极佳的生产效率及可靠的稳定性。光电薄膜绕卷镀膜机特点：(1)允许多个镀膜源(金属、合金、介电材料)同时镀膜，且无需破真空。(2)分离式腔体可进行

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连续式磁控溅射镀膜设备主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀制高质量、高性能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜层。本公司可按用户要求提供设计，提供全套镀膜设备，负责工艺，按交“钥匙”工程服务。设备特点：1.设备采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，并配以先进的控制系统。2.生产过程全部自动，连续进行。被镀工件加热温度最高可达350℃，温度分区控制可调。3.真空室材料采用SUS304，真空室内壁进行抛光处理，外壁采用抛光后喷漆处理。4.真空室之间采用独立门阀隔开，我们设计的是插板阀，可以有效隔断，稳定工艺气体。传动采用磁导向

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光学镀膜机由电脑自动化控制，界面设计简易操作，超高再现性镀膜，配置水晶传感器膜厚计，自动化蒸镀系统，实现参数录入、过程监控及数据存储等功能，强化生产管理，降低生产成本，可镀制金属、化合物、氧化物，膜层具有良好的光谱曲线稳定性。该镀膜机利用电子束蒸发源技术，装配2套电子枪，产生高热量使镀材蒸发，高性能光学厚膜监控仪与计算机结合，实行智能控制，可达到超高精度的光学厚膜，加装自动反面设计，可缩短蒸镀作业时间，达到高效产能并减低生产成本，采用电气控制模块化组合，便于维护，工件架自动旋转。该镀膜设备广泛应用于镀制各种精密光学膜、电学膜，如激光镜、树脂镜片、各种滤光片，冷光膜、分光膜、减反膜、太阳保护膜、

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