福宜真空ALD原子层沉积设备_报价-上海福宜真空设备有限公司

ALD原子层沉积设备

品牌：福宜真空
产地：上海
关注度：719
型号：ALD原子层沉积设备
报价：面议
信息完整度：

手机扫码查看

核心参数

展位推荐

产品介绍

公司开发的主要设备有：工模具硬质涂层镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、多弧离子镀膜设备、磁控溅射复合多弧离子镀镀膜设备、连续线式磁控溅射镀膜生产线、光学镀膜设备、CVD和PECVD化学气相沉积设备、ICP刻蚀设备和ALD原子层沉积等系列真空镀膜和表面处理设备。

问商家

ALD原子层沉积设备的工作原理介绍？
ALD原子层沉积设备的使用方法？
ALD原子层沉积设备多少钱一台？
ALD原子层沉积设备使用的注意事项
ALD原子层沉积设备的说明书有吗？
ALD原子层沉积设备的操作规程有吗？
ALD原子层沉积设备的报价含票含运费吗？
ALD原子层沉积设备有现货吗？
ALD原子层沉积设备包安装吗？

相关产品

光电薄膜绕卷镀膜机

型号：光电薄膜绕卷镀膜机

面议

连续式磁控溅射镀膜设备

型号：连续式磁控溅射镀膜设备

面议

光学镀膜机

型号：光学镀膜机

面议

连续式陶瓷镀膜生产线

型号：连续式陶瓷镀膜生产线

面议

工商信息

企业名称

上海福宜真空设备有限公司

企业类型

信用代码

91310114078107676B

法人代表

注册地址

成立日期

注册资本

有效期限

经营范围

联系我们

上海福宜真空设备有限公司

客服电话

上海福宜真空设备有限公司，是致力于高端真空镀膜设备、复杂镀膜工艺和真空设备核心部件的研发、生产、销售及技术服务的高新技术企业。公司创始人和核心技术团队，致力于复杂镀膜工艺的开发，镀膜工艺和设备集成的理论和实际相结合是公司发展的主要特色。相对于整机设备和镀膜工艺技术，国内核心部件的研究和制备技术水平与国外差距更大。公司投入超过1000万元，重点开发的核心部件主要有：高材料利用率（材料利用率超过40-60%以上）矩形平面磁控溅射阴极、产业用旋转磁控溅射阴极（材料利用率达

推荐产品
供应产品

手机版：